臭氣處理設(shè)備 異味治理設(shè)備 廢氣處理設(shè)備 活性炭吸附凈化除臭裝置 活性炭吸附除臭設(shè)備 光催化除臭設(shè)備 光氧催化廢氣處理裝置 UV光解凈化器設(shè)備
臭氣來源和臭氣處理設(shè)備的組成
近年來,隨著城市化的不斷擴(kuò)***,醫(yī)院作為公共服務(wù)設(shè)施也在不斷地重建和擴(kuò)建。污水處理站作為醫(yī)院的配套設(shè)施,越來越受到重視。污水處理站運行過程中不可避免的會產(chǎn)生一些有害臭氣,臭氣的擴(kuò)散會對周圍環(huán)境產(chǎn)生一定程度的不***影響。它使人感到不愉快,對人體健康有害,***別容易誘發(fā)一些呼吸道疾病。因此,臭氣污染控制已成為亟待解決的問題。
目前常見的臭氣處理方法有水洗、藥液清洗、活性炭吸附、生物除臭等。低溫等離子體除臭是一種新型除臭技術(shù)。越來越多地用于臭氣氣體處理。與其他污染控制技術(shù)相比。等離子體法具有處理過程短、能耗低、適用范圍廣、無二次污染等***點。在污水站除臭***域具有非常廣闊的前景。
臭氣的來源和成分
污水處理站運行過程中,污水處理系統(tǒng)和污泥處理系統(tǒng)都會產(chǎn)生臭氣。主要成分是氨和硫化氫。本工程污水處理構(gòu)筑物采用地埋式結(jié)構(gòu),操作間建在水池上部,導(dǎo)致水池***部人孔散發(fā)的臭氣進(jìn)入操作間,影響操作人員的正常工作。
除臭機(jī)制
低溫等離子體是物質(zhì)繼固體、液體、氣體之后的***四種狀態(tài)。當(dāng)施加的電壓達(dá)到氣體的放電電壓時,氣體被分解,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基的混合物。雖然放電時電子溫度很高。但是重粒子的溫度很低,整個系統(tǒng)處于低溫狀態(tài),所以叫低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是基于這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中污染物的作用。污染物分子在極短的時間內(nèi)分解,發(fā)生各種后續(xù)反應(yīng),達(dá)到減少污染物的目的。




更新時間:2021-05-13 17:10????瀏覽: