等離子體uv光解廢氣除臭處理原理探討

 

uv光解除臭設(shè)備的適用范圍:

 

煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠和垃圾中轉(zhuǎn)站惡臭氣體和工業(yè)廢氣的凈化。

 

uv光解除臭設(shè)備的技術(shù)原理；

 

1.uv光解除臭設(shè)備利用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射廢氣，裂解工業(yè)廢氣如氨、三甲胺、硫化氫、甲基硫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物。

 

2.利用高能、高臭氧的UV光束分解空氣中的氧分子，產(chǎn)生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

 

Uv+O2 → o-+o *(活性氧)O+O2→O3(臭氧)

 

眾所周知，臭氧對(duì)有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用，對(duì)去除工業(yè)廢氣等刺激性氣味有立竿見影的效果。

 

3.工業(yè)廢氣由排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對(duì)工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)，使工業(yè)廢氣物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排放到室外。

 

4.用高能紫外光束裂解工業(yè)廢氣中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，然后用臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，完全達(dá)到凈化殺菌的目的。